Jakie są rodzaje rozpylania magnetronowego o średniej częstotliwości w próżniowej maszynie powłokowej？

Rozpylenie magnetronowe dla Hodowla próżniowa Obejmuje wiele rodzajów. Każda z nich ma różne zasady pracy i obiekty aplikacji. Ale jest jedna wspólna cecha: interakcja między polem magnetycznym a elektronami powoduje, że elektrony spływają wokół powierzchni docelowej, zwiększając w ten sposób prawdopodobieństwo, że elektrony uderzają w gaz argonowy w celu wytworzenia jonów. Wygenerowane jony zderzają się z powierzchnią docelową pod działaniem pola elektrycznego w celu rozpylania materiału docelowego. W ostatnich dziesięcioleciach rozwoju wszyscy stopniowo przyjmowali magnesy stałe i rzadko używali magnesów cewkowych.
Źródło docelowe jest podzielone na typy zrównoważone i niezrównoważone. Zrównoważone źródło docelowe ma jednolitą powłokę, a niezrównoważone źródło docelowe ma silną siłę wiązania między warstwą powłoki a podłożem. Zrównoważone źródła docelowe są najczęściej używane do półprzewodnikowych filmów optycznych, a niezrównoważone źródła są najczęściej używane do noszenia filmów dekoracyjnych.
Niezależnie od równowagi lub niezrównoważenia, jeśli magnes jest stacjonarny, jego charakterystyka pola magnetycznego określa ogólną szybkość wykorzystania docelowego, jest mniejsza niż 30%. Aby zwiększyć szybkość wykorzystania materiału docelowego, można zastosować obracające się pole magnetyczne. Jednak obracające się pole magnetyczne wymaga mechanizmu obrotowego, a szybkość rozpylania musi zostać zmniejszona. Obracające się pola magnetyczne są najczęściej stosowane do dużych lub drogich celów. Takie jak rozpylenie filmu półprzewodnika. W przypadku małego sprzętu i ogólnego sprzętu przemysłowego często stosuje się stacjonarne źródło docelowe z polem magnetycznym.

Łatwo jest rozpylać metale i stopy ze źródłem docelowym magnetronu i łatwo jest zapalić i rozpalić. Wynika to z faktu, że cel (katoda), plazma i komora próżniowa rozpryskiwanych części mogą tworzyć pętlę. Ale jeśli izolator, taki jak ceramika, jest rozpylany, obwód jest zepsuty. Tak więc ludzie używają zasilaczy o wysokiej częstotliwości i dodają silnych kondensatorów do pętli. W ten sposób materiał docelowy staje się kondensatorem w obwodzie izolacyjnym. Jednak zasilacz rozpylania magnetronu o wysokiej częstotliwości jest drogi, szybkość rozpylania jest bardzo mała, a technologia uziemienia jest bardzo skomplikowana, więc trudno jest przyjąć na dużą skalę. Aby rozwiązać ten problem, wynaleziono reaktywne rozpylenie magnetronowe. Oznacza to, że stosuje się cel metalowy i dodaje się argon i gazy reaktywne, takie jak azot lub tlen. Gdy metalowy materiał docelowy uderza w część z powodu konwersji energii, łączy się z gazem reakcyjnym z tworzeniem azotku lub tlenku.
Magnetron reaktywne izolatory rozpylania wydają się łatwe, ale faktyczna operacja jest trudna. Głównym problemem jest to, że reakcja występuje nie tylko na powierzchni części, ale także na anodzie, powierzchni komory próżniowej i powierzchni źródła docelowego. Spowoduje to gaśnianie, łukowe źródło docelowe i powierzchnię przedmiotu obrabianego itp. Technologia źródłowa podwójnego docelowego wymyślona przez Leybolda w Niemczech dobrze rozwiązuje ten problem. Zasada polega na tym, że para źródeł docelowych jest wzajemnie anodą i katodą w celu wyeliminowania utleniania lub azotu na powierzchni anody.
Chłodzenie jest konieczne dla wszystkich źródeł (magnetron, multi-ARC, jonów), ponieważ duża część energii jest przekształcana w ciepło. Jeśli nie ma chłodzenia lub niewystarczającego chłodzenia, ciepło to sprawi, że temperatura źródła docelowa będzie wyższa niż 1000 stopni i stopi całe źródło docelowe.
Urządzenie magnetronowe jest często bardzo drogie, ale łatwo jest wydawać pieniądze na inny sprzęt, taki jak pompa próżniowa, MFC i pomiar grubości folii bez ignorowania źródła docelowego. Nawet najlepszy sprzęt do rozpylania magnetronowego bez dobrego źródła docelowego jest jak rysowanie smoka bez wykończenia oka.