Powłoka z łuku DK

Powłoka łukowa

PVD- Fizyczne osadzanie pary
Jedną formą fizycznego osadzania pary (powłoka PVD) jest powłoka łukowa. Historia powłoki PVD zaczęła stosować technologię ARC, która ma swoje pochodzenie w spawaniu ARC.

Cele

Metal do odparowania jest umieszczony jako stały blok (cel) w stosunku do wnętrza komory próżniowej. Rozładowanie świecące jest zapalane i biegnie na celu, pozostawiając ślad. Małe plamy o docelowym materiale o średnicy kilku μm odparowuje się. Ruch łuku można kierować magnesami.

Powłoka plazmowa

Wyparowany zjonizowany materiał jest stosowany jako powłoka plazmowa na produkcie, który obraca się wewnątrz komory próżniowej. Powłoki łukowe są używane jako powłoka narzędzi i powłoka komponentów.

Przykłady powłok

Przykładami powłoki łukowej są cyny, aitin, aicrn, tisin, ticn, crcn i crn powłoka

Schematyczny widok procesu łuku PVD.

Charakteryzowano technologię powlekania ARC:

Wysokie szybkości osadzania (1 ~ 3 μm/h) Wysoka jonizacja, co powoduje dobrą przyczepność i gęste powłoki, gdy cel jest chłodzony, generowane jest niewielkie ciepło do podłoża, nawet powlekanie w temperaturach poniżej 100 ℃ jest możliwe kilka składu metali można odparować, pozostawiając pozostałym celem docelowym. Katody można umieścić w dowolnej pozycji (poziome, pionowe, do góry nogami), co umożliwia elastyczna konstrukcja maszyn.

Główne wady technologii powlekania ARC:

Ograniczony rodzaj materiałów docelowych - tylko metale (brak tlenków) - które nie mają zbyt niskiej temperatury parowania z powodu wysokiej gęstości prądu Pewność materiału docelowego jest wyrzucana jako małe krople ciekłe.